Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 529 грн 4 901 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 083 грн 8 142 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 300 грн 25 452 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 506 грн 12 568 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 529 грн 6 798 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

7 825 грн 22 291 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 849 грн 17 153 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 011 грн 27 824 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 165 грн 18 417 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 217 грн 15 098 грн
Наверх
Product has been added to your cart