+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

3 018 грн 5 848 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 301 грн 8 395 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

7 640 грн 22 450 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 433 грн 11 791 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

3 018 грн 8 018 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 527 грн 27 072 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 660 грн 15 941 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 753 грн 33 203 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 169 грн 21 318 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 094 грн 14 055 грн
Наверх
Product has been added to your cart