+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 904 грн 5 626 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 539 грн 9 346 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 527 грн 29 217 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 172 грн 14 427 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 904 грн 7 803 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 983 грн 25 587 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 714 грн 19 690 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 344 грн 31 939 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 077 грн 21 141 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 989 грн 17 330 грн
Наверх
Product has been added to your cart