+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 992 грн 5 797 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 273 грн 8 322 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

7 574 грн 22 254 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 395 грн 11 688 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 992 грн 7 948 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 444 грн 26 836 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 610 грн 15 802 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 659 грн 32 913 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 106 грн 21 132 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 049 грн 13 932 грн
Наверх
Product has been added to your cart