+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 592 грн 5 022 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 159 грн 8 344 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 506 грн 26 084 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 617 грн 12 880 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 592 грн 6 966 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 019 грн 22 843 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 994 грн 17 578 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 235 грн 28 514 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 318 грн 18 874 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 346 грн 15 472 грн
Наверх
Product has been added to your cart