+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 598 грн 5 033 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 166 грн 8 361 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 523 грн 26 138 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 627 грн 12 907 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 598 грн 6 981 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 036 грн 22 891 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 007 грн 17 615 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 254 грн 28 573 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 332 грн 18 914 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 357 грн 15 504 грн
Наверх
Product has been added to your cart