+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 899 грн 5 617 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 533 грн 9 331 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 512 грн 29 170 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 164 грн 14 404 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 899 грн 7 791 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 968 грн 25 546 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 704 грн 19 658 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 327 грн 31 888 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 066 грн 21 108 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 979 грн 17 303 грн
Наверх
Product has been added to your cart