+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

3 039 грн 5 888 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 324 грн 8 452 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

7 693 грн 22 603 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 464 грн 11 871 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

3 039 грн 8 073 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 592 грн 27 257 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 698 грн 16 050 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 827 грн 33 430 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 218 грн 21 463 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 128 грн 14 151 грн
Наверх
Product has been added to your cart