+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 986 грн 5 786 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 640 грн 9 613 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 799 грн 30 052 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 320 грн 14 839 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 986 грн 8 026 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 239 грн 26 318 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 906 грн 20 252 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 639 грн 32 851 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 280 грн 21 745 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

6 160 грн 17 826 грн
Наверх
Product has been added to your cart