+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

beta-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

6 381 грн 21 269 грн

Oxirane, ((phenylmethoxy)methyl)- (9CI)

3 279 грн 8 064 грн

Octahydro-1H-4,7-methanoinden-5-yl prop-2-enoate

2 747 грн 14 356 грн

Dicyclopentanyl methacrylate

2 747 грн 13 736 грн

1-Ethylcyclopentyl Acrylate (stabilized with MEHQ)

8 064 грн 24 370 грн

Isobornyl acrylate

2 836 грн 8 242 грн

ISOBORNYL METHACRYLATE

2 836 грн 9 925 грн

BISPHENOL A DIGLYCIDYL ETHER

2 836 грн 10 368 грн
Наверх
Product has been added to your cart