+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

beta-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

5 426 грн 17 149 грн

Oxirane, ((phenylmethoxy)methyl)- (9CI)

3 682 грн 9 010 грн

Octahydro-1H-4,7-methanoinden-5-yl prop-2-enoate

3 003 грн 15 696 грн

Dicyclopentanyl methacrylate

3 003 грн 15 308 грн

1-Ethylcyclopentyl Acrylate (stabilized with MEHQ)

7 073 грн 20 637 грн

Isobornyl acrylate

3 100 грн 9 010 грн

ISOBORNYL METHACRYLATE

3 197 грн 11 239 грн

BISPHENOL A DIGLYCIDYL ETHER

3 100 грн 11 530 грн
Наверх
Product has been added to your cart