Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

beta-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

5 769 грн 19 231 грн

Oxirane, ((phenylmethoxy)methyl)- (9CI)

2 965 грн 7 292 грн

Octahydro-1H-4,7-methanoinden-5-yl prop-2-enoate

2 484 грн 12 981 грн

Dicyclopentanyl methacrylate

2 484 грн 12 420 грн

1-Ethylcyclopentyl Acrylate (stabilized with MEHQ)

7 292 грн 22 036 грн

Isobornyl acrylate

2 564 грн 7 452 грн

ISOBORNYL METHACRYLATE

2 564 грн 8 974 грн

BISPHENOL A DIGLYCIDYL ETHER

2 564 грн 9 375 грн
Наверх
Product has been added to your cart