+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 823 грн 5 469 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 440 грн 9 086 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 262 грн 28 405 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 028 грн 14 026 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 823 грн 7 586 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 733 грн 24 876 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 528 грн 19 142 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 056 грн 31 051 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 881 грн 20 554 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 822 грн 16 849 грн
Наверх
Product has been added to your cart