+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 867 грн 5 555 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 495 грн 9 229 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 408 грн 28 852 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 107 грн 14 247 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 867 грн 7 706 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 871 грн 25 268 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 631 грн 19 444 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 215 грн 31 541 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 989 грн 20 878 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 914 грн 17 114 грн
Наверх
Product has been added to your cart