+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 657 грн 5 147 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 238 грн 8 551 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 717 грн 26 732 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 732 грн 13 200 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 657 грн 7 140 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 219 грн 23 411 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 143 грн 18 015 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 464 грн 29 223 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 475 грн 19 343 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 479 грн 15 857 грн
Наверх
Product has been added to your cart