+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

3 100 грн 6 007 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 391 грн 8 623 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

7 848 грн 23 059 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 554 грн 12 111 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

3 100 грн 8 235 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 786 грн 27 807 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 813 грн 16 374 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

11 045 грн 34 104 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 363 грн 21 896 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 232 грн 14 436 грн
Наверх
Product has been added to your cart