+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 929 грн 5 676 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 570 грн 9 429 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 612 грн 29 476 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 218 грн 14 555 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 929 грн 7 872 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 063 грн 25 814 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 774 грн 19 864 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 436 грн 32 222 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 140 грн 21 329 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

6 042 грн 17 484 грн
Наверх
Product has been added to your cart