+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 904 грн 5 627 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 539 грн 9 347 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 529 грн 29 222 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 173 грн 14 430 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 904 грн 7 805 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 984 грн 25 592 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 716 грн 19 693 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 346 грн 31 945 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 079 грн 21 145 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 990 грн 17 334 грн
Наверх
Product has been added to your cart