+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 915 грн 5 648 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 553 грн 9 382 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 565 грн 29 332 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 192 грн 14 484 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 915 грн 7 834 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 018 грн 25 688 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 741 грн 19 767 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 384 грн 32 064 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 105 грн 21 224 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

6 012 грн 17 399 грн
Наверх
Product has been added to your cart