+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 663 грн 5 160 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 246 грн 8 573 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 739 грн 26 800 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 744 грн 13 234 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 663 грн 7 158 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 240 грн 23 471 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 159 грн 18 061 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 488 грн 29 297 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 492 грн 19 393 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 493 грн 15 897 грн
Наверх
Product has been added to your cart