+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

3 058 грн 5 925 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 345 грн 8 506 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

7 741 грн 22 745 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 492 грн 11 946 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

3 058 грн 8 123 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 652 грн 27 428 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 734 грн 16 151 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 895 грн 33 640 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 263 грн 21 598 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 161 грн 14 240 грн
Наверх
Product has been added to your cart