+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

3 006 грн – 5 823 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 287 грн – 8 359 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

7 608 грн – 22 354 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 415 грн – 11 741 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

3 006 грн – 7 984 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 486 грн – 26 957 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 636 грн – 15 873 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 708 грн – 33 062 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 138 грн – 21 227 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 072 грн – 13 995 грн
Наверх
Product has been added to your cart