Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 531 грн 4 903 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 084 грн 8 146 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 304 грн 25 466 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 508 грн 12 575 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 531 грн 6 802 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

7 830 грн 22 303 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 853 грн 17 162 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 016 грн 27 839 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 169 грн 18 428 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 220 грн 15 106 грн
Наверх
Product has been added to your cart