+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

beta-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

5 370 грн 16 973 грн

Oxirane, ((phenylmethoxy)methyl)- (9CI)

3 644 грн 8 918 грн

Octahydro-1H-4,7-methanoinden-5-yl prop-2-enoate

2 973 грн 15 534 грн

Dicyclopentanyl methacrylate

2 973 грн 15 151 грн

1-Ethylcyclopentyl Acrylate (stabilized with MEHQ)

7 000 грн 20 425 грн

Isobornyl acrylate

3 069 грн 8 918 грн

ISOBORNYL METHACRYLATE

3 164 грн 11 123 грн

BISPHENOL A DIGLYCIDYL ETHER

3 069 грн 11 411 грн
Наверх
Product has been added to your cart