Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

beta-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

5 734 грн 19 113 грн

Oxirane, ((phenylmethoxy)methyl)- (9CI)

2 947 грн 7 247 грн

Octahydro-1H-4,7-methanoinden-5-yl prop-2-enoate

2 469 грн 12 901 грн

Dicyclopentanyl methacrylate

2 469 грн 12 344 грн

1-Ethylcyclopentyl Acrylate (stabilized with MEHQ)

7 247 грн 21 900 грн

Isobornyl acrylate

2 548 грн 7 406 грн

ISOBORNYL METHACRYLATE

2 548 грн 8 919 грн

BISPHENOL A DIGLYCIDYL ETHER

2 548 грн 9 317 грн
Наверх
Product has been added to your cart