+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 587 грн 5 012 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 153 грн 8 327 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 489 грн 26 033 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 608 грн 12 855 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 587 грн 6 953 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

8 004 грн 22 799 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 983 грн 17 544 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 217 грн 28 458 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 306 грн 18 837 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 336 грн 15 442 грн
Наверх
Product has been added to your cart