+38 044 592 10 86 , 0 800 759 770 (безкоштовно з мобільних)

Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 944 грн 5 705 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 588 грн 9 477 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

9 661 грн 29 627 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

5 245 грн 14 630 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 944 грн 7 913 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

9 109 грн 25 947 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

6 809 грн 19 966 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

10 489 грн 32 388 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

7 177 грн 21 438 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

6 073 грн 17 574 грн
Наверх
Product has been added to your cart