Фотополімери широко використовуються як фоторезистивні матеріали під час травлення друкованих плат і напівпровідникових інтегральних мікросхем. TCI - Tokyo Chemical Industry пропонує високоякісні мономери, необхідні для створення фотополімерів.

Фотополімер - це світлочутливий, оптично функціональний полімерний матеріал або смола, розчинність якого змінюється під впливом світла.

За типом фоторезистивні матеріали поділяють на позитивні і негативні. У фоторезистивних матеріалах позитивного типу генератори фотокислот (ГФК) змінюють розчинність фотополімеру, тоді як фоторезисти негативного типу потребують ініціаторів фотополімеризації для полімеризації і затвердіння.

Пропонуємо ознайомитись з мономерами, що призначені для створення фотополімерів

2-PROPENOIC ACID, 1,1-DIMETHYLETHYL ESTER

2 544 грн 4 930 грн

4-Ethenylphenyl acetate

3 101 грн 8 190 грн

1-ADAMANTYL ACRYLATE

8 349 грн 25 604 грн

1-ethylcyclohexyl methacrylate

4 532 грн 12 643 грн

TERT-BUTYL METHACRYLATE

2 544 грн 6 838 грн

1-ADAMANTYL METHACRYLATE

7 872 грн 22 423 грн

1-Methylcyclopentyl prop-2-enoate

5 884 грн 17 255 грн

alpha-methacryloyloxy-gamma-butyrolactone

9 065 грн 27 989 грн

2-Isopropyladamantan-2-yl methacrylate

6 202 грн 18 527 грн

2-METHYL-2-ADAMANTYL METHACRYLATE

5 248 грн 15 187 грн
Наверх
Product has been added to your cart